ASML dan Imec resmi menjalin kerja sama selama lima tahun ke depan untuk mempercepat pengembangan teknologi semikonduktor sub-2nm. Kemitraan ini memastikan bahwa pusat riset asal Belgia tersebut akan mendapatkan mesin litografi High-NA EUV terbaru dari ASML. Proyek ini bertujuan untuk menembus batas teknologi manufaktur chip dengan menggunakan peralatan tercanggih dan berbiaya tinggi. Imec akan menyediakan fasilitas bagi para insinyur dari berbagai institusi akademik dan industri agar mereka dapat melakukan penelitian menggunakan teknologi terbaru. Sementara itu, ASML akan memastikan alat-alatnya dapat diintegrasikan ke dalam proses manufaktur chip generasi berikutnya. Sebagai bagian dari kesepakatan, Imec akan menggunakan beberapa mesin utama dari ASML, termasuk Twinscan NXT (DUV), Twinscan NXE (Low-NA EUV dengan apertur numerik 0,33), serta Twinscan EXE (High-NA EUV dengan apertur numerik 0,55).  Selain itu, fasilitas Imec juga akan dilengkapi dengan peralatan metrologi YieldStar...